氧化铌陶瓷靶材Nb2O5,(NbOx)

氧化铌陶瓷靶材Nb2O5,(NbOx)

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高纯度氧化铌旋转溅射靶材(NbOx

名称:氧化铌旋转溅射靶 NbOx  

纯度:99.99%

相对密度:≥95%

工艺:真空等离子热喷涂技术

规格:(max)4000mm

壁厚:3-20mm

公司分别在上海,江苏,南京,苏州,福建,广东深圳,北京等地设有相关厂生产及销售氧化铌靶Nb2O5,NbOxSi靶等陶瓷平面靶旋转靶产品。

产品说明

名  称:氧化铌旋转溅射靶 NbOx

品  牌:Aetoes 

纯  度:99.99%

相对密度:≥95%

成型工艺:真空等离子热喷涂

规  格:长度(Max)4000mm

壁  厚:3-20mm根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工

产品优点:含氧量低,致密度高,纯度保障

产品用途:氧化铌旋转溅射靶由于其独特的物理和化学性质而被广泛的应用于现

     在技术的许多领域,如建筑汽车玻璃、平板显示器、触摸屏、气体传

     感器和光学薄膜干涉滤波器等行业镀膜,是专业的真空镀膜材料

产品产地:江苏苏州地区,专业陶瓷靶材生产厂家。

NbOx target (NiobiumOxide)

Niobium Oxide (Nb2O5, NbOx)Rotatable (Rotary, Cylindrical) Sputtering Target

ManufacturingRange

OD (mm)

ID (mm)

Length (mm)

Custom Made

80 - 160

60 - 125

100 - 4000

Specification

Composition

Nb2O5, Nb2Ox

Purity

3N5 (99.95%), 4N (99.99%)

Density

4.3 g/cm3

Grain Sizes

< 100 micron or on request

Fabrication Processes

Plasma Spraying, Machining

Shape

Straight, Dog bone

End Types

SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI Ends  Fixation, Spiral Groove,

Custom Made for SS Backing Tube

Surface

Ra 1.6 micron

OtherSpecification

Vapor degreased and demagnetized after finalmachining.

ID to be HONED and OD GROUND after raw tube isproduced to ensure ID to OD concentricity meets drawing requirements.

High vacuum tight, leak rate at any location not toexceed 1 x 10-8 STD CC/SEC.

Sealed in plastic, wrapped in foam to protect, andends capped to protect seal surfaces.



主体材质
Nb2O5, NbOx
产品概述
氧化铌旋转溅射靶由于其独特的物理和化学性质而被广泛的应用于现      在技术的许多领域,如建筑汽车玻璃、平板显示器、触摸屏、气体传      感器和光学薄膜干涉滤波器等行业镀膜,是专业的真空镀膜材料Nb2O5, NbOx Sputtering Targets
符号
Nb2O5, Nb2Ox
颜色
黑色
纯度
99.99%
品牌
aetoes
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